포토마스크
포토마스크는 반도체 노광 공정에서 회로 패턴을 빛으로 웨이퍼 위 감광막에 전사하도록 만든 정밀 원판형 패턴 도구이다.
한 입에 정리하면
- 01회로층마다 서로 다른 마스크가 필요해요
- 02패턴 결함이 칩 수율과 성능에 영향을 줘요
- 03미세화될수록 정밀도와 검사 기준이 엄격해져요
왜 나온 말일까요?
포토마스크에는 투명한 기판 위에 빛을 차단하거나 통과시키는 미세 회로 무늬가 만들어져 있어요. 노광 장비는 이 무늬에 빛을 비춰 축소하거나 투영하는 방식으로 웨이퍼의 감광막에 회로 패턴을 옮겨요. 이후 현상·식각·증착 등의 공정을 거쳐 실제 회로층이 형성되므로, 포토마스크의 정밀도와 청정도는 반도체 생산 품질에 중요해요. 회로 선폭이 더 작아지고 노광 기술이 발전할수록 마스크 설계·제조·결함 검사도 함께 고도화돼요.
예를 들어
스마트폰용 반도체처럼 여러 회로층으로 구성된 칩은 층별 배선과 소자 패턴을 만들기 위해 다수의 포토마스크를 사용해요.
이 용어가 나온 이슈
체리픽이 기사 원문이 아닌 사실관계를 바탕으로 쉽게 풀어 쓴 정의예요. 원문은 각 카드의 "더 읽기"에서 확인할 수 있어요.
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