심자외선(DUV)
심자외선(DUV)은 반도체 노광 공정에서 비교적 짧은 파장의 자외선을 이용해 미세 회로 패턴을 웨이퍼에 전사하는 기술이에요.
한 입에 정리하면
- 01EUV보다 파장이 길어 성숙한 공정에 널리 쓰여요
- 02대량 생산성과 장비 호환성이 강점이에요
- 03초미세 회로에선 다중 패터닝 등 보완이 필요해요
왜 나온 말일까요?
심자외선(DUV)은 반도체 칩을 만들 때 회로 모양을 웨이퍼에 찍어내는 노광 단계에서 쓰여요. 자외선의 파장을 이용해 미세한 선폭을 구현하는데, 공정이 안정적이고 이미 산업적으로 널리 검증돼 있어서 다양한 메모리·시스템 반도체 생산에 활용돼요. 다만 회로를 더 작게 만들수록 해상도 한계가 생겨서, 아주 미세한 공정에서는 여러 번 나눠 찍는 보완 기술이 함께 쓰이기도 해요. 그래서 DUV는 반도체 양산 경쟁력과 공급 능력을 이해할 때 자주 등장해요.
예를 들어
일반적으로 7나노 이상급의 여러 반도체 공정이나 범용 메모리 생산에서 DUV 노광장비가 널리 활용돼요.
이 용어가 나온 이슈
체리픽이 기사 원문이 아닌 사실관계를 바탕으로 쉽게 풀어 쓴 정의예요. 원문은 각 카드의 "더 읽기"에서 확인할 수 있어요.
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